FTO（氟摻雜氧化錫）導電玻璃作為一種廣泛應用于太陽能電池、電致變色器件和觸摸屏等領域的基材，其刻蝕工藝是制造過程中的關鍵步驟。目前，激光刻蝕與化學刻蝕是兩種主流技術，各有優劣，適合不同應用場景。

激光刻蝕利用高能激光束精確去除FTO導電層，具有高精度、無接觸、環保無污染的優點。它適用于微細圖案加工，如電極陣列的制備，能實現線寬小于10微米的精細結構。激光刻蝕工藝簡單，無需掩模，適合小批量、高靈活性生產。設備成本較高，且可能因熱影響導致玻璃基材微裂紋，影響整體性能。

化學刻蝕則通過酸液（如鹽酸或氫氟酸）腐蝕FTO層，成本較低，適合大規模生產。該方法能均勻處理大面積基材，但精度相對較低，易出現側向腐蝕，導致線寬控制不佳。化學刻蝕需使用腐蝕性化學品，存在安全風險和環境污染問題，且需額外步驟如掩模制備和廢液處理。

總體而言，選擇激光刻蝕還是化學刻蝕，需綜合考慮精度要求、生產規模、成本及環境因素。對于高精度器件，激光刻蝕更優；而批量生產時，化學刻蝕經濟性更高。未來，隨著技術發展，兩者結合或新工藝的出現，有望進一步提升FTO導電玻璃的應用潛力。